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A litografia representa uma importante ferramenta para o desenvolvimento tecnológico de nano e micro sistemas eletromecânicos. Esses sistemas podem ter funç?es de sensores de posicionamento como acelerômetros e giroscópios, motores, sensores de press?o, etc. As técnicas de litografia est?o cada vez mais diversificadas e precisas. Neste trabalho foram desenvolvidas duas técnicas de litografia do tipo bottom-up usando o Microscópio de Força Atômica (MFA). Na primeira técnica de nanofabricaç?o o padr?o é transferido mecanicamente utilizando a sonda do MFA. Na segunda técnica de nanofabricaç?o uma nanomáscara de óxido de germânio é criada através da oxidaç?o anódica local, também utilizando a sonda do MFA. Outro importante tema abordado neste trabalho é o problema da revers?o da magnetizaç?o em sistemas com dimens?es finitas, tais como nanofios. A partir das duas técnicas de litografia desenvolvidas neste trabalho diversos nanofios magnéticos foram fabricados. A revers?o da magnetizaç?o desses nanofios foi investigada e modelada a partir de medidas feitas com a técnica de magnetoresist?ncia.
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