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Nanoparticle Engineering for Chemical-Mechanical Planarization

Idioma InglésInglés
Libro Tapa dura
Libro Nanoparticle Engineering for Chemical-Mechanical Planarization Jea-Gun Park
Código Libristo: 06708211
Editores Taylor & Francis Inc, febrero 2009
Explains the physicochemical properties of nanoparticles according to each step in the chemical mech... Descripción completa
? points 721 b
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Explains the physicochemical properties of nanoparticles according to each step in the chemical mechanical planarization (CMP) process, including dielectric CMP, shallow trend isolation CMP, metal CMP, poly isolation CMP and noble metal CMP. This work also presents design techniques using polymeric additives to improve CMP performance.

Actriz & Políglota
EWA KASP para
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Ewa Kasp
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Sobre el libro

Nombre y apellidos Nanoparticle Engineering for Chemical-Mechanical Planarization
Autor Jea-Gun Park
Idioma Inglés
Encuadernación Libro - Tapa dura
Fecha de publicación 2009
Número de páginas 224
EAN 9781420059113
ISBN 9781420059113
Código Libristo 06708211
Editores Taylor & Francis Inc
Peso 570
Dimensiones 156 x 234 x 20

Categorías

Tecnología, ingeniería, agricultura, procedimientos industriales > Tecnología: cuestiones generales > Nanotecnología
Tecnología, ingeniería, agricultura, procedimientos industriales > Química industrial y tecnologías manufactureras > Química industrial e ingeniería química
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