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Atomic Layer Deposition for Semiconductors

Idioma InglésInglés
Libro Tapa dura
Libro Atomic Layer Deposition for Semiconductors Cheol Seong Hwang
Código Libristo: 01428994
Editores Springer-Verlag New York Inc., octubre 2013
This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, mov...
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This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, moving from the basic chemistry of ALD and modeling of ALD processes to sections on ALD for memories, logic devices, and machines.

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Sobre el libro

Nombre y apellidos Atomic Layer Deposition for Semiconductors
Autor Cheol Seong Hwang
Idioma Inglés
Encuadernación Libro - Tapa dura
Fecha de publicación 2013
Número de páginas 263
EAN 9781461480532
ISBN 1461480531
Código Libristo 01428994
Editores Springer-Verlag New York Inc.
Peso 5384
Dimensiones 155 x 235 x 19

Categorías

Matemáticas y ciencias > Química > Química física > Electroquímica y magnetoquímica
Tecnología, ingeniería, agricultura, procedimientos industriales > Ingeniería electrónica y de las comunicaciones > Ingeniería electrónica > Dispositivos y materiales electrónicos
Tecnología, ingeniería, agricultura, procedimientos industriales > Tecnología e ingeniería energética > Ingeniería eléctrica
Computación e informática > Hardware (o soporte físico del ordenador) > Medios de almacenamiento y dispositivos periféricos
Computación e informática > Ciencias de la computación > Arquitectura y diseño lógico de ordenadores
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