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Atomic Layer Deposition for Semiconductors

Idioma InglésInglés
Libro Tapa blanda
Libro Atomic Layer Deposition for Semiconductors Cheol Seong Hwang
Código Libristo: 13809644
Editores Springer-Verlag New York Inc., agosto 2016
This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, mov...
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This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, moving from the basic chemistry of ALD and modeling of ALD processes to sections on ALD for memories, logic devices, and machines.

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Sobre el libro

Nombre y apellidos Atomic Layer Deposition for Semiconductors
Autor Cheol Seong Hwang
Idioma Inglés
Encuadernación Libro - Tapa blanda
Fecha de publicación 2016
Número de páginas 263
EAN 9781489979438
ISBN 1489979433
Código Libristo 13809644
Editores Springer-Verlag New York Inc.
Peso 482
Dimensiones 234 x 155 x 18

Categorías

Matemáticas y ciencias > Química > Química física > Electroquímica y magnetoquímica
Tecnología, ingeniería, agricultura, procedimientos industriales > Ingeniería electrónica y de las comunicaciones > Ingeniería electrónica > Dispositivos y materiales electrónicos
Computación e informática > Hardware (o soporte físico del ordenador) > Medios de almacenamiento y dispositivos periféricos
Computación e informática > Ciencias de la computación > Arquitectura y diseño lógico de ordenadores
Tecnología, ingeniería, agricultura, procedimientos industriales > Tecnología e ingeniería energética
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