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Atomic Layer Deposition

Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications

Idioma InglésInglés
Libro Tapa dura
Libro Atomic Layer Deposition Tommi Kaariainen
Código Libristo: 04949772
Editores John Wiley & Sons Inc, junio 2013
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerf... Descripción completa
? points 548 b
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Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

Actriz & Políglota
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Ewa Kasp
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Sobre el libro

Nombre y apellidos Atomic Layer Deposition
Autor Tommi Kaariainen, David Cameron, Marja-Leena Kaariainen, Arthur Sherman
Idioma Inglés
Encuadernación Libro - Tapa dura
Fecha de publicación 2013
Número de páginas 272
EAN 9781118062777
ISBN 1118062779
Código Libristo 04949772
Editores John Wiley & Sons Inc
Peso 582
Dimensiones 240 x 164 x 25

Categorías

Tecnología, ingeniería, agricultura, procedimientos industriales > Ingeniería mecánica y de materiales > Ciencia de materiales > Ingeniería aplicada de revestimientos de superficies, capas y películas
Tecnología, ingeniería, agricultura, procedimientos industriales > Ingeniería electrónica y de las comunicaciones > Ingeniería electrónica > Dispositivos y materiales electrónicos
Tecnología, ingeniería, agricultura, procedimientos industriales > Tecnología: cuestiones generales > Nanotecnología
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